Do envelope de sala limpa à conexão de equipamentos de processo — projetamos instalações de fabricação de semicondutores. Salas limpas ISO Classe 1-8, água ultrapura 18.2 MOhm-cm, entrega de químicos e gases.
ISO Class 1-8 cleanrooms with laminar flow, fan filter units (FFU), air showers, pass-throughs, gowning areas, and ESD-safe flooring.
Process tool connections: gas, chemical, UPW, exhaust, electrical, and data. Valve manifold boxes (VMB) and interface units (VMB/IU) for all tools.
UPW generation: pretreatment, reverse osmosis, ion exchange, membrane degas, and final polishing to 18.2 MOhm-cm resistivity with TOC < 1 ppb.
Fornecimento Químicos/Gases
Exaustão e Abatimento
Real-time cleanroom monitoring: particle count, temperature, humidity, pressure differential, utility status, and alarm management with SCADA integration.
| Specification | Value | Notes |
|---|---|---|
| Cleanroom Class | ISO Class 1-8 | Laminar / turbulent flow |
| UPW Resistivity | 18.2 MOhm-cm | TOC < 1 ppb, particles < 0.05um |
| UPW Capacity | Up to 200 m3/hr | Multi-stage RO + DI |
| Chemical Delivery | Acid, base, solvent | Bulk + point-of-use |
| Gas Systems | Process, inert, toxic | Gas cabinets + VMB |
| Abatement | Scrubber + thermal | PFC, SiH4, acid gas |
| Build Timeline | 24-52 weeks | From design to qualification |
| Standards | SEMI S2, F57, E10 | Semiconductor industry |
Amostragem no local, medição de vazão e caracterização da infraestrutura existente e requisitos de descarga.
Seleção da linha de tratamento, dimensionamento de equipamentos, layout 3D e modelagem hidráulica com análise de redundância.
Instalação mecânica, elétrica e de controles por equipes internas com protocolos FAT/SAT.
Validação de desempenho, otimização, treinamento de operadores e pacote completo de documentação.
Informe seus requisitos de instalação, metas de produção e cronograma. Nossa equipe de engenharia responderá com um escopo preliminar em até 3 dias úteis.
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