Desde la envolvente de cuarto limpio hasta la conexión de equipos de proceso — diseñamos instalaciones de fabricación de semiconductores. Cuartos limpios ISO Clase 1-8, agua ultrapura 18.2 MOhm-cm.
ISO Class 1-8 cleanrooms with laminar flow, fan filter units (FFU), air showers, pass-throughs, gowning areas, and ESD-safe flooring.
Process tool connections: gas, chemical, UPW, exhaust, electrical, and data. Valve manifold boxes (VMB) and interface units (VMB/IU) for all tools.
UPW generation: pretreatment, reverse osmosis, ion exchange, membrane degas, and final polishing to 18.2 MOhm-cm resistivity with TOC < 1 ppb.
Suministro de Químicos/Gases
Extracción y Reducción
Real-time cleanroom monitoring: particle count, temperature, humidity, pressure differential, utility status, and alarm management with SCADA integration.
| Specification | Value | Notes |
|---|---|---|
| Cleanroom Class | ISO Class 1-8 | Laminar / turbulent flow |
| UPW Resistivity | 18.2 MOhm-cm | TOC < 1 ppb, particles < 0.05um |
| UPW Capacity | Up to 200 m3/hr | Multi-stage RO + DI |
| Chemical Delivery | Acid, base, solvent | Bulk + point-of-use |
| Gas Systems | Process, inert, toxic | Gas cabinets + VMB |
| Abatement | Scrubber + thermal | PFC, SiH4, acid gas |
| Build Timeline | 24-52 weeks | From design to qualification |
| Standards | SEMI S2, F57, E10 | Semiconductor industry |
Muestreo en sitio, medición de caudal y caracterización de la infraestructura existente y requisitos de descarga.
Selección de la línea de tratamiento, dimensionamiento de equipos, diseño 3D y modelado hidráulico con análisis de redundancia.
Instalación mecánica, eléctrica y de controles por equipos internos con protocolos FAT/SAT.
Validación de rendimiento, optimización, capacitación de operadores y paquete completo de documentación.
Indíquenos sus requisitos de instalación, objetivos de producción y cronograma. Nuestro equipo de ingeniería responderá con un alcance preliminar en 3 días hábiles.
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